在半导体产业中，设备机台扮演着重要的角色，是最直接接触到组件与产品的一部分，因此也与产品的良率息息相关。对半导体生产设备来说，除了使用的技术与设备本身的质量相当重要之外，设备内部的环境也是不可疏忽的环节。随着制程线宽不断的缩小，气态分子污染物(AMC)的危害就日益增加，为了解决AMC控制问题，钰祥设计了一系列的化学滤网，能够适用在各式机台上，为AMC控制解决方案带来最大的弹性。
钰祥更与半导体设备制造商密切合作，抢先掌握设备过滤的关键技术，以在次世代的设备过滤技术中抢占先机，并满足最先进制程的需求。若想了解更多关于钰祥设备制程区解决方案的应用，欢迎随时与我们联络。
 
照片
产品名称
产品介绍
6V Single header
 
  1. Installation Location 安装位置：MAU、RCU、Dry coil
  2. Challenge Gases 可去除气体：MA、MB、MC
  3. Product Specification 规格：可依照客户需求客制化
4V Single header
 
  1. Installation Location 安装位置：MAU、RCU、Dry coil
  2. Challenge Gases 可去除气体：MA、MB、MC
  3. Product Specification 规格：可依照客户需求客制化
平板型
Panel
 
  1. Installation Location 安装位置：MAU、RCU、Dry coil
  2. Challenge Gases 可去除气体：MA、MB、MC
  3. Product Specification 规格：可依照客户需求客制化
3 in 1
氣密式堆疊
 
  1. Installation Location 安装位置：MAU、RCU、Dry coil
  2. Challenge Gases 可去除气体：MA、MB、MC
  3. Product Specification 规格：可依照客户需求客制化

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