在半导体产业中,设备机台扮演着重要的角色,是最直接接触到组件与产品的一部分,因此也与产品的良率息息相关。对半导体生产设备来说,除了使用的技术与设备本身的质量相当重要之外,设备内部的环境也是不可疏忽的环节。随着制程线宽不断的缩小,气态分子污染物(AMC)的危害就日益增加,为了解决AMC控制问题,钰祥设计了一系列的化学滤网,能够适用在各式机台上,为AMC控制解决方案带来最大的弹性。
钰祥更与半导体设备制造商密切合作,抢先掌握设备过滤的关键技术,以在次世代的设备过滤技术中抢占先机,并满足最先进制程的需求。若想了解更多关于钰祥设备制程区解决方案的应用,欢迎随时与我们联络。
 
照片
产品名称
产品介绍
6V Single header
 
  1. Installation Location 安装位置:MAU、RCU、Dry coil
  2. Challenge Gases 可去除气体:MA、MB、MC
  3. Product Specification 规格:可依照客户需求客制化
4V Single header
 
  1. Installation Location 安装位置:MAU、RCU、Dry coil
  2. Challenge Gases 可去除气体:MA、MB、MC
  3. Product Specification 规格:可依照客户需求客制化
平板型
Panel
 
  1. Installation Location 安装位置:MAU、RCU、Dry coil
  2. Challenge Gases 可去除气体:MA、MB、MC
  3. Product Specification 规格:可依照客户需求客制化
3 in 1
氣密式堆疊
 
  1. Installation Location 安装位置:MAU、RCU、Dry coil
  2. Challenge Gases 可去除气体:MA、MB、MC
  3. Product Specification 规格:可依照客户需求客制化